Título: | Characterization by XRD and UV-VIS spectrophotometry of ZnO film deposited by pld. : Caracterización por DRX y espectrofotometría UV-VIS de películas de ZnO depositadas por pld. |
Autores: | Riascos Landázuri, Henry; Universidad Tecnológica de Pereira ; Jiménez García, Francy Nelly; Universidad Nacional de Colombia, sede Manizales ; Pérez Taborda, Jaime Andrés; Universidad Tecnológica De Pereira |
Tipo de documento: | texto impreso |
Editorial: | Universidad Católica de Pereira, 2010-01-16 |
Dimensiones: | application/pdf |
Nota general: |
Entre ciencia e ingeniería; Vol. 4, núm. 7 (2010); 88 - 94 2539-4169 1909-8367 Copyright (c) 2016 Entre Ciencia e Ingeniería http://creativecommons.org/licenses/by-nc/4.0 |
Idiomas: | Español |
Palabras clave: | Artículos |
Resumen: |
ZnO films were deposited by pulsed laser ablation employing different temperatures and gas pressures. It was used as a target a tablet made from available commercial ZnO powder. The films were grown on glass substrates treated by chemical Cleanliness. The samples were characterized by X ray diffraction and Uv-Vis spectrophotometry as a function of substrate temperature and gas pressure. The ZnO exhibits hexagonal wurtzite structure with preferential orientation along c-axis direction. It was found that the best quality films were obtained at substrate temperature of 300ºC and at gas pressure of 26,7 Pa. At room temperature films exhibit ZnO hexagonal phase with low crystallinity. At low pressures thin films do not generate ZnO phases. Se obtuvieron películas de ZnO mediante la técnica de deposición por láser pulsado (PLD) con diferentes temperaturas y presiones del gas de trabajo. Se utilizaron como blanco pastillas sintetizadas a partir de polvo de ZnO, comercialmente disponible. Las películas se crecieron sobre sustratos de vidrio previamente tratados mediante limpieza química. Las muestras se caracterizaron mediante las técnicas de Difracción de Rayos X (XRD) y Espectrofotometría UV-Visible en función de la temperatura del sustrato y la presión del gas. El ZnO posee una estructura tipo hexagonal wurzite, con orientación preferencial en la dirección [002]. Las películas de mejor calidad cristalina se obtuvieron a una temperatura del sustrato de 300ºC y a presión de 26,7 Pa; a temperatura ambiente se obtienen películas que si bien presentan la fase hexagonal de ZnO, ésta es de baja cristalinidad; presiones bajas no generan fases de ZnO. |
En línea: | https://biblioteca.ucp.edu.co/OJS/index.php/entrecei/article/view/2001 |
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Estado |
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